1995 · 軟體工程師出身，現從事膠彩創作
我的創作以膠彩為核心媒材，探索一種特定的感知狀態——身體與意識之間若即若離的距離感。
這種距離不只是心理描述，它有其視覺結構：空間的錯位、時間的重疊、無法被合併的兩個層次。我試圖透過構圖、視角與材料的安排，讓畫面本身製造這種感知的不穩定，而非用文字解釋它。
膠彩的礦物質地、多層薄紙的透明度，以及材料之間的密度差，是這套圖像語言的物質基礎。
經歷
- 1995 出生
- 2017 國立臺北科技大學 電機工程系 畢業
- 2017 軟體工程師，任職至今
- 2025 國立臺北藝術大學 美術學系 碩士在職專班 就讀中
展覽
聯展
- 2026 - 多面顯影, 北藝地下美術館, 台北市, 台灣
- 2026 - 輕亮計畫, 北藝南北藝廊, 台北市, 台灣
- 2024 - 113年文化藝術及文化創意研習班師生成果展, 中正紀念堂, 台北市, 台灣
學校評鑑
- 2025 - 114學年度第1學期期末評鑑觀摩展【未定義】, 北藝地下美術館, 台北市, 台灣